บทความวิจัยพ.ศ. 2560ผลของกระแสสปัตเตอริงต่อโครงสร้างของฟิล์มบางวาเนเดียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยรีแอคตีฟดีซีอันบาลานซ์แมกนีตรอนสปัตเตอริงนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2560 ติดต่อนักวิจัยแชร์ บันทึกเข้าสู่ระบบเพื่อบันทึกคำสำคัญThin filmฟิล์มบางVanadium Nitridesputtering currentวาเนเดียมไนไตรด์reactive DC unbalanced magnetron sputteringกระแสสปัตเตอริงรีแอคตีฟดีซีอันบาลานซ์แมกนีตรอนสปัตเตอริงงานวิจัยในหัวข้อใกล้เคียงผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนต่อโครงสร้างของฟิล์มบางวาเนเดียมไนไตรด์ ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคทีฟดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริงนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2559ผลของเวลาการเคลือบที่มีต่อโครงสร้างและสมบัติของฟิล์มบางโครเมียมไนโตรด์ที่ถูกสปัตเตอร์ด้วยวิธีรีแอคตีฟดีซีแมกนีตรอนนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2561การเตรียมและศึกษาลักษณะเฉพาะของฟิล์มบางโครเมียมวาเนเดียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคตีฟ ดีซีแมกนีตรอน โคสปัตเตอริงสุรสิงห์ ไชยคุณ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2557การเตรียมและศึกษาลักษณะเฉพาะของฟิล์มบางโครเมียมไนไตรด์ที่เคลือบ ด้วยรีแอคทีฟดีซีอันบาลานซ์แมกนีตรอนสปัตเตอริงนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2559