บทความวิจัยพ.ศ. 2561ผลของเวลาการเคลือบที่มีต่อโครงสร้างและสมบัติของฟิล์มบางโครเมียมไนโตรด์ที่ถูกสปัตเตอร์ด้วยวิธีรีแอคตีฟดีซีแมกนีตรอนนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2561 ติดต่อนักวิจัยแชร์ บันทึกเข้าสู่ระบบเพื่อบันทึกคำสำคัญรีแอคตีฟDeposition time Reactive magnetron sputtering CrN thin filmsฟิล์มบางโครเมียมไนไตรด์แมกนีตรอนเวลาการเคลือบสป็ตเตอริงงานวิจัยในหัวข้อใกล้เคียงการเตรียมและศึกษาลักษณะเฉพาะของฟิล์มบางโครเมียมไนไตรด์ที่เคลือบ ด้วยรีแอคทีฟดีซีอันบาลานซ์แมกนีตรอนสปัตเตอริงนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2559การเตรียมและศึกษาลักษณะเฉพาะของฟิล์มบางไทเทเนียมโครเมียมไนไตรด์ ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคทีฟดีซีแมกนีตรอนโคสปัตเตอริงนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2561การเตรียมและศึกษาลักษณะเฉพาะของฟิล์มบางโครเมียมวาเนเดียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคตีฟ ดีซีแมกนีตรอน โคสปัตเตอริงสุรสิงห์ ไชยคุณ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2557ผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนต่อโครงสร้างของฟิล์มบางวาเนเดียมไนไตรด์ ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคทีฟดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริงนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2559