บทความวิจัยพ.ศ. 2559การเตรียมและศึกษาลักษณะเฉพาะของฟิล์มบางโครเมียมไนไตรด์ที่เคลือบ ด้วยรีแอคทีฟดีซีอันบาลานซ์แมกนีตรอนสปัตเตอริงนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2559 ติดต่อนักวิจัยแชร์ บันทึกเข้าสู่ระบบเพื่อบันทึกคำสำคัญThin filmฟิล์มบางChromium NitrideN2 Gas Flow Rateอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนReactive DC Sputteringโครเมียมไนไตรด์รีแอคทีฟดีซีสปัตเตอริงงานวิจัยในหัวข้อใกล้เคียงการเตรียมและศึกษาลักษณะเฉพาะของฟิล์มบางไทเทเนียมโครเมียมไนไตรด์ ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคทีฟดีซีแมกนีตรอนโคสปัตเตอริงนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2561การเตรียมและศึกษาลักษณะเฉพาะของฟิล์มบางโครเมียมวาเนเดียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคตีฟ ดีซีแมกนีตรอน โคสปัตเตอริงสุรสิงห์ ไชยคุณ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2557ผลของเวลาการเคลือบที่มีต่อโครงสร้างและสมบัติของฟิล์มบางโครเมียมไนโตรด์ที่ถูกสปัตเตอร์ด้วยวิธีรีแอคตีฟดีซีแมกนีตรอนนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2561ผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนต่อโครงสร้างของฟิล์มบางวาเนเดียมไนไตรด์ ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคทีฟดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริงนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2559