บทความวิจัยพ.ศ. 2563สมบัติเชิงโครงสร้างและไฟฟ้าของฟิล์มบางซิงค์ออกไซด์ที่เตรียมด้วยเทคนิคอาร์เอฟสปัตเตอริงวีรวัฒน์ อินทรทัต มหาวิทยาลัยราชภัฏภูเก็ต พ.ศ. 2563 ติดต่อนักวิจัยแชร์ บันทึกเข้าสู่ระบบเพื่อบันทึกคำสำคัญElectrical resistivityสภาพต้านทานไฟฟ้าZnO thin filmsRF-sputteringฟิล์มบางซิงค์ออกไซด์อาร์เอฟสปัตเตอริงงานวิจัยในหัวข้อใกล้เคียงการสังเคราะห์โครงสร้างนาโนซิงค์ออกไซด์โดยวิธีปฏิกิริยาออกซิเดชันสุทธินาถ หนูทองแก้ว มหาวิทยาลัยอุบลราชธานี พ.ศ. 2559การเตรียมและศึกษาลักษณะเฉพาะของฟิล์มบางโครเมียมไนไตรด์ที่เคลือบ ด้วยรีแอคทีฟดีซีอันบาลานซ์แมกนีตรอนสปัตเตอริงนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2559ผลของความดันย่อยไนโตรเจนต่อสมบัติทางโครงสร้าง และทางไฟฟ้าของฟิล์มบางไทเทเนียมทังสเตนไนไตรด์กัญจน์ชญา หงส์เลิศคงสกุล มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2557ผลของความดันย่อยของออกซิเจนและอุณหภูมิการอบต่อสมบัติของฟิล์มทินออกไซด์กัญจน์ชญา หงส์เลิศคงสกุล มหาวิทยาลัยสวนดุสิต พ.ศ. 2560