บทความวิจัยพ.ศ. 2561EFFECT OF NITROGEN FLOW RATE ON STRUCTURE OF TiCrN THIN FILMS PREPARED FROM MOSAIC TARGET BY REACTIVE DC UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERINGนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2561 ติดต่อนักวิจัยแชร์ บันทึกเข้าสู่ระบบเพื่อบันทึกคำสำคัญThin filmsTiCrNMosaic targetNitrogen flow rateReactive sputteringงานวิจัยในหัวข้อใกล้เคียงEffects of Ti target current on the crystal structure morphology and chemical structure of TiC films as deposited by dualtarget DC magnetron sputtering techniqueสุรสิงห์ ไชยคุณ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2562Effect of Sputtering Power on the Structure of DC Magnetron Sputtered Vanadium Nitride Thin Filmsนิรันดร์ วิทิตอนันต์ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2560Growth of Aluminium Nitride Thin Film using Pulse-Modulated Rf Magnetron Sputtering Plasma Universiti Tun Hussein Onn Malaysia พ.ศ. 2563The influence of nitrogen pressure on the structure of a-CNx thin films prepared by PLD method พ.ศ. 2562