บทความวิจัยพ.ศ. 2563Influence of hf etching time and concentration on si wafer in the mixture solution of hf/hno3/ch3cooh พ.ศ. 2563 ติดต่อนักวิจัยแชร์ บันทึกเข้าสู่ระบบเพื่อบันทึกคำสำคัญEnergy savingWet etchingEtch rateHFSi waferงานวิจัยในหัวข้อใกล้เคียงEffect of substrate placement in schott vial to hematite properties Universiti Teknologi MARA พ.ศ. 2562Effect of etching as pre-treatment for electroless copper plating on silicon wafer Universiti Teknologi Malaysia พ.ศ. 2560The Effect of Various Types of Silane Coupling Agents on The Wettability of Hydrofluoric Acid-Etched/Unetched Lithium Disilicate Surfacesตุลย์ ศรีอัมพร มหาวิทยาลัยรังสิต พ.ศ. 2563Influence of gate material and process on junctionless FET subthreshold performance พ.ศ. 2559