บทความวิจัยพ.ศ. 2563Influence of hf etching time and concentration on si wafer in the mixture solution of hf/hno3/ch3cooh พ.ศ. 2563 ติดต่อนักวิจัย แชร์ บันทึกคำสำคัญEnergy savingWet etchingEtch rateHFSi waferงานวิจัยในหัวข้อใกล้เคียงThermal oxidation improvement in semiconductor wafer fabrication Universiti Teknologi Malaysia พ.ศ. 2562A temperature characterization of (Si-FinFET) based on channel oxide thickness พ.ศ. 2562โครงการ จุลทรรศนศาสตร์อิเล็กตรอนของเหล็กหล่อโครเมียมสูงเฟอริติกที่มีการเติมซิลิกอน (0-3)wt%Si เพื่อใช้งานที่อุณหภูมิสูง และความสัมพันธ์กับความแข็ง และการเกิดออกซิเดชันอัมพร เวียงมูล มหาวิทยาลัยนเรศวร พ.ศ. 2557ผลของซิลิคอนต่อพฤติกรรมการสึกหรอแบบขัดสีของเหล็กหล่อโครเมียมสูง 16% Cr 2% Mo ที่ผ่านกรรมวิธีทางความร้อนสุดสาคร อินธิเดช มหาวิทยาลัยมหาสารคาม พ.ศ. 2562The Characteristic of TMG adsorption on the Si(100)(2?1) surface in atomic layer deposition (ALD): Computational prediction of Si9H12O2GaCH3 structureปรเมษฐ์ จันทร์เพ็ง มหาวิทยาลัยมหาสารคาม พ.ศ. 2562Micro-drilling of silicon wafer by industrial CO2 laser พ.ศ. 2558อิทธิพลของสัดส่วน Al2O3 กับ SiO2 และรูปแบบการเผาต่อเคลือบผลึกวิลลิไมท์นงลักษณ์ มีทอง มหาวิทยาลัยขอนแก่น พ.ศ. 2557Roles of H2O to hydrogen bonds, structure and strength of complexes of CH3CHS and H2O พ.ศ. 2562Catalytic effect of K2CO3 in steam gasification of lignite char on mole ratio of H2/CO in syngas Universitas Indonesia พ.ศ. 2558The adsorption of C2H2, C2H4, and C2H6 on single fe atom doped SWCNT: A density functional theory study พ.ศ. 2563