รายงานฉบับสมบูรณ์พ.ศ. 2563
การพัฒนาระบบเคลือบฟิล์มบางด้วยเทคนิคแมกนีตรอนสปัตเตอริงร่วมกับลำไอออนและเทคนิคการเคลือบด้วยลำอิเล็กตรอนสำหรับประยุกต์ในอุตสาหกรรมเครื่องประดับไทย
ราชศักดิ์ ศักดานุภาพ สำนักงานการวิจัยแห่งชาติ (วช.) พ.ศ. 2563 ชื่อผู้แต่งข้างต้นเป็นข้อความจากระเบียนผลงาน ไม่ได้ผูกกับรหัสนักวิจัย จึงกดดูผลงานอื่นของบุคคลนี้ไม่ได้ — ในคลังนี้ 142,080 ผลงาน (63.6% ของทั้งหมด) มีชื่อผู้แต่งที่เชื่อมกับหน้าผู้แต่งได้ และ 60,298 ผลงาน (27.0%) มีผู้แต่งที่ผูกกับรหัสนักวิจัยจริง ส่วนอีก 81,382 ผลงานไม่มีข้อมูลผู้แต่งเลย (มีชื่อผู้แต่งเป็นข้อความอยู่ 142,009 ผลงาน = 63.5%)
บทคัดย่อ
โครงการวิจัยนี้มีวัตถุประสงค์เพื่อปรับปรุงระบบเคลือบฟิล์มบางที่มีอยู่เดิมให้เป็นเครื่องต้นแบบระดับกึ่งอุตสาหกรรมสำหรับการวิจัยและพัฒนาด้านเทคโนโลยีการเคลือบผิวขั้นสูง โดยระบบเคลือบผิวด้วยไอเชิงกายภาพหรือระบบพีวีดีได้ถูกออกแบบให้มีฟังก์ชันการทำงานที่หลากหลายเพื่อแก้ปัญหาเครื่องประดับที่มีการหมองคล้ำ การหลุดลอกของผิวชุบโลหะและเพิ่มอายุการใช้งาน โดยอาศัยการเคลือบผิววัสดุประเภทโลหะออกไซด์ เช่น TiO2 และ Al2O3 ซึ่งเป็นวัสดุสำหรับการสาธิตในการตรวจสอบการทำงานของระบบพีวีดี ส่วนประกอบที่สำคัญของระบบพีวีดี ได้แก่ ชุดแมกนีตรอนสปัตเตอริงร่วมกับลำไอออน ชุดระเหยสารด้วยลำ และชุดตรวจสอบความหนาของฟิล์ม ผลการดำเนินงานในส่วนที่ได้ปรับปรุงและพัฒนาแล้ว ได้แก่ การปรับปรุงส่วนปั๊มสุญญากาศ (turbo molecular pump) ส่วนควบคุมการทำงานแบบอัตโนมัติ (PLC), ส่วนให้ความร้อน (heater) และ ชุดควบคุมการหมุนชิ้นงานพร้อมอุปกรณ์จับยึด ชุดแมกนีตรอนสปัตเตอริงร่วมกับลำไอออนพร้อมแหล่งจ่ายไฟฟ้าแบบดีซี พัลล์ดีซี และอาร์เอฟแมกนีตรอนสปัตเตอริง ได้ถูกติดตั้งเข้ากับห้องสุญญากาศของระบบพีวีดี ผลการทดสอบการทำความดันสุญญากาศ, การควบคุมอัตโนมัติผ่าน PLC, การหมุนชิ้นงาน, การใช้ความร้อน สามารถทำงานได้อย่างมีเสถียรภาพ โดยระบบสุญญากาศสามารถทำความดันได้ที่ 1.6 x 10-4 Pa ใช้เวลาเพียง 1 ชั่วโมง ควบคุมแบบอัตโนโมติผ่าน PLC สถานะปัจจุบันของโครงการอยู่ระหว่างการทดลองเพื่อหาเงื่อนไขที่เหมาะสมในการเคลือบฟิล์มออกไซด์ของ TiO2 และ Al2O3 โดยค้นหาปัจจัยที่สำคัญ ได้แก่ กำลังไฟฟ้า อัตราส่วนก๊าซอาร์กอนและออกซิเจน อุณหภูมิ และความหนาที่เหมาะสม
คำสำคัญ
jewelry industryอุตสาหกรรมเครื่องประดับElectron beam depositionion beam assisted magnetron sputteringPVD coatingการเคลือบผิวด้วยเทคนิค PVDเทคนิคการเคลือบด้วยลำอิเล็กตรอนเทคนิคแมกนีตรอนสปัตเตอริงร่วมกับลำไอออน
งานวิจัยในหัวข้อใกล้เคียง
การเคลือบและปรับปรุงผิวฟิล์มบางไทเทเนียมอลูมิเนียมอัลลอยด์ด้วยวิธีสปัตเตอริงสำหรับงานป้องกันการกัดกร่อน
อรรถพล เชยศุภเกตุ มหาวิทยาลัยบูรพา พ.ศ. 2561 การศึกษาสมบัติการป้องกันการกัดกร่อนด้วยวิธีโฟโตแคโทดิก โดยการเคลือบฟิล์มบางวัสดุกึ่งตัวนาซิงค์ออกไซด์บนผิวเหล็กกล้าไร้สนิม ด้วยเทคนิคสเปรย์ไพโรไลสิสแบบนิวเมติกส์
ราชธีร์ เตชไพศาลเจริญกิจ มหาวิทยาลัยเกษตรศาสตร์ พ.ศ. 2560 การออกแบบและสร้างแคโทด สำหรับระบบปลูกฟิล์มบาง อาร์เอฟแมกเนตรอนสปัตเตอริง
วราวุฒิ เถาลัดดา คณะวิทยาศาสตร์ สถาบันเทคโนโลยีพระจอมเกล้าเจ้าคุณทหารลาดกระบัง พ.ศ. 2553 การเคลือบโลหะบนผลิตภัณฑ์ตกแต่งด้วยวิธีสปัตเตอริง
วรวรงค์ รักเรืองเดช สำนักงานคณะกรรมการการอุดมศึกษา พ.ศ. 2552 การเคลือบวัสดุที่มีโครงสร้างนาโน เพื่อประยุกต์ใช้ในภาคอุตสาหกรรม
สมชาย ทองเต็ม สถาบันวิจัยและพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ พ.ศ. 2551 การเตรียมและวิเคราะห์อินเดียม-ทินออกไซด์โครงสร้างแบบแท่งนาโนโดยการเคลือบมุมต่ำด้วยกระบวนการเคลือบโดยไอเชิงฟิสิกส์สำหรับการประยุกต์ใช้เป็นขั้วไฟฟ้าโปร่งใส
ไชยยันต์ โอรส มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีราชมงคลรัตนโกสินทร์ พ.ศ. 2558 การพัฒนาฟิล์มบางโปร่งใสนาไฟฟ้าซิงค์ออกไซด์เจือด้วยอินเดียมและแกลเลียมเตรียมด้วยกระบวนการโซล-เจลเพื่อประยุกต์ในงานอิเล็กทรอนิกส์โปร่งใส
วิษณุ เพชรภา สถาบันเทคโนโลยีพระจอมเกล้าเจ้าคุณทหารลาดกระบัง พ.ศ. 2559 การพัฒนาฟิล์มบางโปร่งใสนำไฟฟ้าซิงค์ออกไซด์เจือด้วยอินเดียมและแกลเลียมเตรียมด้วยกระบวนการโซล-เจลเพื่อประยุกต์ในงานอิเล็กทรอนิกส์โปร่งใส
วิษณุ เพชรภา สถาบันเทคโนโลยีพระจอมเกล้าเจ้าคุณทหารลาดกระบัง พ.ศ. 2559 นวัตกรรมการพัฒนาฟิล์มบางนาโนของโลหะอัลลอยสำหรับใช้ในกระจกชนิดแผ่รังสีความร้อนต่ำโดยวิธีการเคลือบในสุญญากาศเพื่อลดการใช้พลังงานในชุมชนอย่างยั่งยืน
วุฒิชัย แพงาม มหาวิทยาลัยราชภัฏพระนคร พ.ศ. 2564 การเตรียมฟิล์มบางอินเดียมทินออกไซด์ลงบนพลาสติก โดยใช้เทคนิคดีซี และดีซี พัลส์ แมกนีตรอน สปัตเตอริง
กิติพัฒน์ อนุรักษ์ฤานนท์ คณะวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีราชมงคลธัญบุรี พ.ศ. 2553