บทความวิจัยพ.ศ. 2561High-k gate dielectric selection for germanium based CMOS devices พ.ศ. 2561 ติดต่อนักวิจัยแชร์ บันทึกเข้าสู่ระบบเพื่อบันทึกคำสำคัญTOPSISMaterial selectionGermaniumHigh-k gate dielectricsCMOS devicesงานวิจัยในหัวข้อใกล้เคียงEffects of High-k Dielectric Materials on Electrical Performance of Double Gate and Gate-All-Around MOSFET พ.ศ. 2563Simulations of the CNFETS using different high-k gate dielectrics พ.ศ. 2563Influence of gate material and process on junctionless FET subthreshold performance พ.ศ. 2559Comparative high-K material gate spacer impact in DG-finfet parameter variations between two structures พ.ศ. 2562