บทความวิจัยพ.ศ. 2559Challenges for 0.13?m generation Shallow Trench Isolation on 0.18?m equipment platform พ.ศ. 2559 ติดต่อนักวิจัยแชร์ บันทึกเข้าสู่ระบบเพื่อบันทึกคำสำคัญComplementary Metal-oxide Semiconductor (CMOS)Optical Proximity Correction (OPC)Semiconductor FabricationShallow Trench Isolation (STI)งานวิจัยในหัวข้อใกล้เคียงDevelopment of a Next Generation Ubiquitous Processor Chip พ.ศ. 2555Characterization & Optimization of 32nm P-Channel MOSFET Device พ.ศ. 2556Thermal oxidation improvement in semiconductor wafer fabrication Universiti Teknologi Malaysia พ.ศ. 2562OFET preparation by lithography and thin film depositions process พ.ศ. 2561Comparative study of symmetrical OTA performance in 180 nm, 130 nm and 90 nm CMOS technology Universiti Tun Hussein Onn Malaysia พ.ศ. 2562